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臺(tái)積電7/6/5nm工藝供不應(yīng)求 史上最高開支狂買EUV光刻機(jī)

2020-03-20

作為全球晶圓代工廠的一哥,TSMC臺(tái)積電今年在先進(jìn)制程上的優(yōu)勢(shì)還會(huì)進(jìn)一步加強(qiáng),除了7nm供不應(yīng)求之外,6nm及5nm工藝也會(huì)量產(chǎn),以滿足蘋果、華為、高通等大客戶需求。


為此臺(tái)積電2020年的資本開支再創(chuàng)新高,2019年臺(tái)積電將資本開支提升到了140-150億美元,相比之前增加了40億美元,而2020年至少是150-160億美元,是史上最高的資本支出。


巨額資本主要用于擴(kuò)增先進(jìn)工藝產(chǎn)線,除了7nm滿載之外,今年還會(huì)有6nm工藝及5nm工藝,尤其是后者,蘋果的A14、華為的海思麒麟1020芯片都會(huì)上5nm工藝。


為此臺(tái)積電正在加快設(shè)備購(gòu)買,主要受益的廠商就是ASML、KLA科磊、應(yīng)用材料等公司,他們供應(yīng)的光刻機(jī)、蝕刻機(jī)等都是制造芯片的重要裝備。


這其中,ASML的EUV光刻機(jī)無疑是最關(guān)鍵的,臺(tái)積電的第二代7nm工藝、5nm工藝都會(huì)大量使用EUV光刻機(jī),這種設(shè)備只有ASML能產(chǎn),每臺(tái)售價(jià)超過1.2億美元。


根據(jù)ASML公司發(fā)布的財(cái)報(bào),2019年全年一共出貨了26臺(tái)EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)2020年交付35臺(tái)EUV光刻機(jī),2021年則會(huì)達(dá)到45臺(tái)到50臺(tái)的交付量,是2019年的兩倍左右。


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